O2 සංශුද්ධතාවය: ≥99.5%

O2 ධාරිතාව: 50~10000Nm3/h

N2 සංශුද්ධතාවය: ≥99.999%

N2 ධාරිතාව: 50~30000Nm3/h

එකවර සහ විකල්පව O2 සහ N2 නිපදවන්න.

O2 සංශුද්ධතාවය : ≥99.5%

N2 සංශුද්ධතාවය: ≥99.999%

O2 ධාරිතාව: 50~10000Nm3/h

N2 ධාරිතාව: 50~30000Nm3/h

ආගන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.9%

ආගන් ධාරිතාව: ≥3Nm3/h

ද්‍රව ඔක්සිජන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.5%

ද්‍රව ඔක්සිජන් ධාරිතාව: ≤300TPD

ද්‍රව නයිට්‍රජන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.999%

ද්‍රව නයිට්‍රජන් ධාරිතාව: ≤300TPD

එකවර සහ විකල්ප වශයෙන් LOX සහ LIN නිපදවන්න.

ද්‍රව ඔක්සිජන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.5%

ද්‍රව නයිට්‍රජන් සංශුද්ධතාවය:≥99.999%

LOX/LIN ධාරිතාව:≤300TPD

එකවර සහ විකල්ප වශයෙන් LOX සහ LIN&LAR නිපදවන්න.

ද්‍රව ඔක්සිජන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.5%

ද්‍රව නයිට්‍රජන් සංශුද්ධතාවය:≥99.999%

ද්‍රව ආගන් සංශුද්ධතාවය: ≥99.999%

LOX/LIN ධාරිතාව:≤300TPD

ද්‍රව ආගන් ධාරිතාව: ≤100TPD